Dispersion capacitive de l’interface H2SO4/Pt

Numéro de la revue: 31
Auteurs: Abdelhamid  Hammadi* & Mourad Berd

Département de Physique, Faculté des Sciences Exactes
Université des frères Mentouri, Constantine 1, 25000,  Constantine, Algérie.

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Résumé

Des mesures d’impédances par SIE et de voltammogrammes par VC sur des électrodes prétraitées de Pt plongées dans une solution électrolytique de 0,5M H2SO4 sont présentées. Deux techniques de prétraitement électrochimique de l’électrode de travail (WE) (fil fin de Pt) sont utilisées: l’une de nettoyage et l’autre de « gravage ». Les résultats obtenus montrent que l’origine de la dispersion capacitive de l’interface Pt / H2SO4 semble dépendre du désordre de surface et de l’adsorption spécifique des ions. Les effets du nettoyage (surface propre à l’échelle microscopique) jouent un rôle significatif dans la dispersion capacitive. L’adsorption des ions Cl connus pour leur pouvoir très adsorbant sur le platine joue aussi un rôle prépondérant et que l’adsorption et la rugosité de surface sont infiniment liées.

Mots clés : dispersion capacitive – désordre de surface – rugosité – échelle atomique.